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140L中溫氣氛箱式爐，該設備為爐體呈箱型結構的熱處理設備，通過內置加熱元件提供可控的高溫環境，主要用于對金屬、陶瓷、粉體等物料進行批次式的加熱、燒結、退火或淬火處理，廣泛應用于材料科學與工程領域。

單溫區PE-CVD系統采用高性能射頻電源，等離子體更穩定；滑軌式結構能使整個反應腔室都處于輝光產生區；可實現快速升溫和降溫功能；與傳統CVD相比較，生長溫度更低。

1500單溫區管式爐采用硅碳棒為加熱元件，額定溫度1500℃，溫度可達1450℃。采用宇電控溫儀表和S型熱電偶，可編程30段程序控溫，控溫精度±1℃。設備中包含一套316L不銹鋼快開法蘭，雙環密封技術，可應用于CVD實驗、熒光粉制備、真空或氣氛下材料燒結、基片鍍膜等實驗環境。

實驗室回轉窯本裝置由控制中心，加熱爐主體，攪拌系統，平移裝置及進氣系統組成

實驗級單溫區立式管式爐 爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業在可控多種氣氛及真空狀態下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設備。

微型立式管式爐TFV-1200-30-220是一款小型開啟式立式管式爐，其爐管直徑為φ30/50mm可選，適合于對樣品在真空或氣氛保護環境下吊燒和淬火。如果選用不同的配件與裝置搭配，其也可以當作一款流化床立式管式爐來使用，可專門針對粉末表面沉積的CVD實驗。